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半導(dǎo)體循環(huán)冷水機(jī)Chiller 分析裝置制冷機(jī)

簡要描述:【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。半導(dǎo)體循環(huán)冷水機(jī)Chiller 分析裝置制冷機(jī)

  • 產(chǎn)品型號:LTS-202
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-01-16
  • 訪  問  量:1356
詳情介紹
品牌冠亞制冷冷卻方式水冷式
價(jià)格區(qū)間10萬-50萬產(chǎn)地類別國產(chǎn)
儀器種類一體式應(yīng)用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥,汽車及零部件



無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導(dǎo)體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,

?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。




【 冠亞制冷 】半導(dǎo)體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品:

半導(dǎo)體專溫控設(shè)備

射流式?低溫沖擊測試機(jī)

半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風(fēng)控溫裝置

半導(dǎo)體?低溫測試設(shè)備

電?設(shè)備?溫低溫恒溫測試?yán)錈嵩?/span>

射流式高低溫沖擊測試機(jī)

快速溫變控溫卡盤

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案


型號FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
溫度范圍5℃~40℃
控溫精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
內(nèi)循環(huán)液容積4L5L6L8L10L12L20L
膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
制冷劑R410A
載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
進(jìn)出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
溫度擴(kuò)展通過增加電加熱器,擴(kuò)展-25℃~80℃





半導(dǎo)體循環(huán)冷水機(jī)Chiller 分析裝置制冷機(jī)

半導(dǎo)體循環(huán)冷水機(jī)Chiller 分析裝置制冷機(jī)


  隨著半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)的發(fā)展,半導(dǎo)體行業(yè)對設(shè)備的要求也越來越高。其中,多晶硅刻蝕雙通道chiller冷卻設(shè)備是半導(dǎo)體制造過程中的一種設(shè)備,在半導(dǎo)體制造過程中,需要將芯片冷卻到低的溫度,以確保其性能和穩(wěn)定性。

  其中,多晶硅刻蝕雙通道chiller是一種常見的半導(dǎo)體冷卻設(shè)備。它通過將冷卻劑循環(huán)使用,將芯片冷卻到所需的溫度范圍。多晶硅刻蝕雙通道chiller的主要功能是提供穩(wěn)定的溫度控制,以確保芯片在制造過程中的穩(wěn)定性和可靠性。

  在半導(dǎo)體行業(yè)中,多晶硅刻蝕雙通道chiller的應(yīng)用非常廣泛。它不僅用于制造芯片,還用于制造集成電路、光電子器件和其他半導(dǎo)體器件。此外,多晶硅刻蝕雙通道chiller還可以用于其他領(lǐng)域,如新能源電池電機(jī)中進(jìn)行高低溫測試用等。

  在半導(dǎo)體制造過程中,多晶硅刻蝕雙通道chiller不僅可以提供穩(wěn)定的溫度控制,還可以減少熱噪聲和熱膨脹等效應(yīng),從而提高芯片的性能和穩(wěn)定性。此外,多晶硅刻蝕雙通道chiller還可以提高生產(chǎn)效率,減少生產(chǎn)成本。

  在選擇半導(dǎo)體行業(yè)用多晶硅刻蝕雙通道chiller時,需要考慮多個因素。需要確定所需的冷卻功率和溫度范圍。其次,需要考慮設(shè)備的可靠性、穩(wěn)定性和易用性。另外,需要考慮設(shè)備的成本和維護(hù)成本。

  總之,半導(dǎo)體行業(yè)用多晶硅刻蝕雙通道chiller是半導(dǎo)體制造過程中的一部分。它可以提供穩(wěn)定的溫度控制,還可以提高生產(chǎn)效率,減少生產(chǎn)成本。因此,選擇合適的半導(dǎo)體行業(yè)用多晶硅刻蝕雙通道chiller對于半導(dǎo)體制造企業(yè)來說有一定影響。



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