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密閉制藥化工用制冷加熱循環器 tcu溫控系統

簡要描述:【無錫冠亞】密閉制藥化工用制冷加熱循環器 tcu溫控系統,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

  • 產品型號:SUNDI-135
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-16
  • 訪  問  量:1068
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區間10萬-20萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥/生物制藥,綜合


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制


型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/





密閉制藥化工用制冷加熱循環器 tcu溫控系統

密閉制藥化工用制冷加熱循環器 tcu溫控系統


  在蒸餾過程中,加熱和冷卻的效率直接影響到實驗的效果。過熱或過冷都可能導致實驗失敗,甚至引發問題。因此,選擇一款穩定的實驗室密閉高低溫循環裝置至關重要。

  二、實驗室密閉高低溫循環裝置在蒸餾反應中的應用

  在蒸餾反應中,實驗室密閉高低溫循環裝置可以通過自動調節溫度,確保實驗在條件下進行。無論是在加熱還是冷卻階段,都能保證溫度的穩定性和準確性。

  通過使用實驗室密閉高低溫循環裝置,蒸餾過程可以更快、更有效地完成。這對于工業生產具有重要意義,可以提高產量,降低能源消耗。

  使用實驗室密閉高低溫循環裝置可以減少實驗過程中可能出現的問題。系統能夠自動檢測異常溫度,并及時采取保護措施,如自動關閉加熱或冷卻功能,以防止過熱或過冷。

在選擇實驗室密閉高低溫循環裝置時,選擇經過嚴格測試和驗證的系統,以確保其在各種條件下的穩定工作。根據實際需要,選擇適合的溫度范圍。




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